[用途]ウェーハー洗浄装置、レジスト液タンク、配管、セラミック製部品類、硫酸カロ液による洗浄、CVD装置、エッチング装置、基板への樹脂熱転写、CMP後洗浄工程・装置、磁気ヘッド製造。    

●搬送部品の液切れを飛躍的に向上、液ダレを激減させます。
高撥水性によるパーティクルの防止。
●ウエット式洗浄装置の冷却タンクの腐食防止。
高耐食性による長寿命化。

●液切れを飛躍的に向上、残液を激減させます。
高洗浄化によるクロスコンタミ防止。
●タンク・配管の金属イオン溶出を制御します。
高純度ライニングによる金属汚染の防止。
●溶剤系レジストの時には、帯電防止グレードによる静電気帯電防止。
火災防止・安全性向上。
●ハロゲン系ガスのウェット腐食を防止します。
高耐食性によるパーティクル防止。

 

 

[用途]レジスト塗布工程、アライメントテーブル、除外装置、設備 環境工程、純粋タンク・純粋製造装置、着色工程、液晶注入装置、ガラス基板搬送用プレート、排気ガスダクト

●コータリングノズルや周 辺機器へのレジスト液の付着を防止します。
非粘着性によるコータリング性能の向上
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